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1、研磨盤可為偏心、三偏心或圓形結(jié)構(gòu)，按一定順序排列，研磨介質(zhì)分布均勻，研磨效率高，產(chǎn)品細(xì)度可達(dá)到 微米或亞微米級。
　　2、分離系統(tǒng)采用間隙分離器，過流面積大，分離效果好，設(shè)備壽命長。
　　3、帶強(qiáng)制冷卻液的雙端面機(jī)械密封組件，密封效果好，運行可靠。
　　4、更換研磨筒和轉(zhuǎn)子，可以改裝成大流量循環(huán)砂磨機(jī)，用來研磨細(xì)度要求高，難分散的材料或溫度敏感的產(chǎn)品。
　　5、筒體和研磨盤可以選用不同的材質(zhì)，如：不銹鋼、陶瓷、聚氨酯等，以滿足不同產(chǎn)品的質(zhì)量要求。

連續(xù)研磨工藝:
　　加料泵將預(yù)分散的物料送入砂磨機(jī)，研磨筒內(nèi)裝有研磨介質(zhì)。磨細(xì)后的物料經(jīng)動態(tài)分離器排出。視產(chǎn)品細(xì)度不 同，可以采用單臺連續(xù)或多臺串聯(lián)連續(xù)研磨工藝。

循環(huán)研磨工藝:
　　加料泵將預(yù)分散的物料送入砂磨機(jī)，研磨過的物料經(jīng)動態(tài)分離器又返回物料循環(huán)筒，進(jìn)行多次循環(huán)研磨。循環(huán) 時間視最終產(chǎn)品的細(xì)度而定。該工藝適合對產(chǎn)品細(xì)度要求高的情況。
應(yīng)用：
　　最小可用￠0.2mm磨介，用于納米材料的分散、改性、制備等領(lǐng)域。已成功應(yīng)用納米氧化鈦的生產(chǎn)、 500nm氧化鋯的生產(chǎn)、D97〈5um硅酸鋯的生產(chǎn)、50nm碳化硅的生產(chǎn)。

注：該機(jī)廣泛應(yīng)用于電子、陶瓷、化工、醫(yī)藥、冶金、涂料油墨、食品、環(huán)保等各種粉體加工行業(yè)。