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硫酸價格便宜、不會發煙腐蝕周圍的金屬元器件，而且膜對硫酸根離子的脫除率較氯離子高，所以硫酸比更為常用。沒有其他添加劑的工業級硫酸即適宜于反滲透使用，商品硫酸有2％和93％兩種濃度規格。％的硫酸也稱為66波美度硫酸。在稀釋93％硫酸時一定要小心，在稀釋到66％時發熱可將溶液的溫度提升到138℃。一定要在攪拌下緩慢地將酸加入水中，以免水溶液局部發熱沸騰。主要在可能產生硫酸鈣或硫酸鍶結垢時使用。
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VIATRAN是創新壓力和液位變送器的制造商。我們的高精度變送器和堅固耐用的壓力變送器可在廣泛的壓力和溫度范圍內提供可重復的測量。VIATRAN壓力變送器提供mV/V、電壓和4-20 mA輸出，以及各種電氣連接和壓力端口接頭。我們的壓力變送器產品系列包括標準負載壓力變送器、高精度壓力變送器、差壓變送器、浸入式壓力傳感器、過程壓力變送器、衛生型壓力變送器、齊平式安裝壓力傳感器、重載壓力變送器和特殊壓力傳感器。

半個世紀以來，Viatran一直致力于解決一些惡劣應用環境中的壓力、液位測量，極端溫度和快速響應問題 ，包括高腐蝕性介質、破壞性循環壓力、以及嚴重的沖擊和振動應用環境。Viatran壓力傳感器和液位測量變送器專門設計用于石油和天然氣服務、鋼鐵生產、食品和設備、壓鑄、化工生產和各種汽車和測試。

Viatran一直在設計和制造壓力傳感儀器石油和天然氣工業50多年來，我們非常熟悉鉆井、二次采油、海上和陸上生產的苛刻性能、可靠性和適應性要求。
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美國威創 Viatran 壓力傳感器 5093BPS
美國威創 Viatran 壓力傳感器 5705BPSX1052
美國威創 Viatran 壓力傳感器 5093BQS
美國威創 Viatran 壓力傳感器 5093BMST85
美國威創 Viatran 壓力傳感器 520BQS
美國威創 Viatran 壓力傳感器 5093BPST25A
美國威創 Viatran 壓力傳感器 510BPSNK（6個接線）
美國威創 Viatran 壓力傳感器 423BFSX1413
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污水處理廠的臭氣嚴重影響了周圍居民的生活，居民不斷向環保部門投訴，引起了環保部門的高度重視，要求該廠進行臭氣治理。處理工藝選擇目前常用的除臭方法有化學除臭、生物除臭、高能離子脫臭和天然提取液噴霧除臭等。除臭工藝的選擇必須充分考慮工程實際，結合技術自身特點，選擇佳的方案。桐鄉市污水處理廠的臭味問題具有以下幾個特點：臭味與COD關系密切，當工業廢水含量增加時，COD上升，臭味加重；臭味隨季節變化明顯，夏季臭味遠高于冬季；污水處理廠建設初期未考慮除臭，處理區內未留有除臭工程用地；污水處理廠的整體外貌設計基本成型，過大的改造對污水處理廠影H向大；除臭設施運行管理應簡單。
EMG 伺服閥 LLS 675/02
EMG 伺服閥 SV1-10/32/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6SV1-10/16/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/16/315-6
EMG傳感器KLW 300.012
EMG 位置傳感器 KLW 150.012
EMG 傳感器 KLW 225.012
EMG 位置傳感器 KLW 360.012
EMG 位置傳感器 KLW150.012
EMG 位置傳感器 KLW225.012
EMG 位置傳感器 KLW300.012
EMG 位置傳感器 KLW450.012
EMG 位置傳感器 KLW600.012
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/32/100/6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/4/120/6
EMG 伺服閥 SV2-16/125/315/1/1/01
EMG 濾芯 HFE400/10H
EMG 位移傳感器 KLM300/012
EMG 對中整流器 LLS675/02
EMG 光 LIC1075/11
EMG 電路處理板 EVK2.12
EMG 電源 BK11.02
EMG 處理器 MCU16.1
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG 對中光源 LID2-800.2C
EMG 對中光源 LID2-800.2C
EMG 電動執行器 DMC2000-B3-160-SMC002-DCS
EMG 位移傳感器 KLW300.012
EMG 電路板 LIC2.01.1
EMG 推動桿EB1250-60IIW5T
EMG 推動桿EB800-60II
EMG 推動桿EB220-50/2IIW5T
EMG 推動桿EB300-50IIW5T
EMG 發射光源L1C770/01-24VDC/3.0A
EMG 制動器ED121/6 2LL5   551-1
EMG 光電探頭EVK2-CP/800.71L/R
EMG 放大器EVB03/235351
EMG 對中控制SMI  2.11.1/2358100134300
EMG 電路板SMI   2.11.3/235990
EMG 泵DMC   249-A-40
EMG 泵DMC   249-A-50
EMG 泵DMC 30   A-80
EMG 泵DPMC   59-V-8
EMG 位置傳感器LWH-0300
EMG 電動執行器DMCR59-B1-10
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/6
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/8
EMG 伺服閥SV1-10/48/315/8
EMG 伺服閥SV2-10/64/210/6
EMG對中光源LID2-800.2C
EMG KLW300-012
CPC LS14.02
KLW 360.012
EPC EVM2-CP/1300.71/L/R
EPC CCDPro 5000
CPC LS13.01
EMG光電式測量傳器 EVM2-CP/1850 71/L/R
EMG高頻光源 LLS875/01
EMG數字式控制器 ICON SE+VS/AE1054
EMG適配器 EVB03.01

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柱塞套件\APP261500&APP30-46\180B4199
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沖洗閥套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4170
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溫度區別：水浴溫度-1，油浴溫度1-26。加熱過程：加熱時，待加熱的物質通常置于容器內，容器置于熱源上，有些容器，如玻璃容器和陶瓷容器，若直接置于熱源上，則往往因受熱不均，溫升過快，產生炸裂，或因熱傳遞不良，使加熱物質受熱不均勻。為此，對進入實驗室的加熱容器產品應進行熱浴處理。所謂熱浴，是將容器置于熱浴物質內，讓熱浴物質的溫度緩慢升高到一定程度，再讓其緩慢冷卻，從而達到改善容器熱傳遞性能，使容器質底均勻的方法。