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此類建筑照明、空調、和其它附屬用電設備（風機、水泵、電梯等）的用電量可達6～1kWh/m2，是普通公共建筑用電量的3～8倍，因此是建筑節能的重點。實現大型公建節能的主要途徑為：1）控制此類建筑的總量。包括嚴格限制既有建筑通過改造，升級為大型公建；嚴格限制新建建筑以各種名義盲目提次，成為高耗能建筑。嚴格審查新建的各類公共建筑�？刂平ㄖ�規模，限制采用大玻璃幕墻等高能耗方式，限制采用全空氣的空調方式。
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VIATRAN是創新壓力和液位變送器的制造商。我們的高精度變送器和堅固耐用的壓力變送器可在廣泛的壓力和溫度范圍內提供可重復的測量。VIATRAN壓力變送器提供mV/V、電壓和4-20 mA輸出，以及各種電氣連接和壓力端口接頭。我們的壓力變送器產品系列包括標準負載壓力變送器、高精度壓力變送器、差壓變送器、浸入式壓力傳感器、過程壓力變送器、衛生型壓力變送器、齊平式安裝壓力傳感器、重載壓力變送器和特殊壓力傳感器。

半個世紀以來，Viatran一直致力于解決一些惡劣應用環境中的壓力、液位測量，極端溫度和快速響應問題 ，包括高腐蝕性介質、破壞性循環壓力、以及嚴重的沖擊和振動應用環境。Viatran壓力傳感器和液位測量變送器專門設計用于石油和天然氣服務、鋼鐵生產、食品和設備、壓鑄、化工生產和各種汽車和測試。

Viatran一直在設計和制造壓力傳感儀器石油和天然氣工業50多年來，我們非常熟悉鉆井、二次采油、海上和陸上生產的苛刻性能、可靠性和適應性要求。
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美國威創 Viatran 壓力傳感器 5093BPS
美國威創 Viatran 壓力傳感器 5705BPSX1052
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美國威創 Viatran 壓力傳感器 510BPSNK（6個接線）
美國威創 Viatran 壓力傳感器 423BFSX1413
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反應釜是化工行業用來完成物質的物理!化學反應等工藝過程的典型設備之一,通常由釜體、傳熱、傳動、攪拌及密封等部分組成。雖然反應釜常見的零部件早就有部標或者國標，但除搪瓷釜外，至今尚未查見整機的部標或者國標，真正近乎完設備并不多見。大多數情況下，反應釜是一種帶有常見缺陷的化工設備，由于反應釜工作時存在易燃、易爆、毒害、腐蝕介質，反應釜的缺陷在不同程度上危害人身、財產安全，也影響著產品質量。
EMG 伺服閥 LLS 675/02
EMG 伺服閥 SV1-10/32/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6SV1-10/16/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/16/315-6
EMG傳感器KLW 300.012
EMG 位置傳感器 KLW 150.012
EMG 傳感器 KLW 225.012
EMG 位置傳感器 KLW 360.012
EMG 位置傳感器 KLW150.012
EMG 位置傳感器 KLW225.012
EMG 位置傳感器 KLW300.012
EMG 位置傳感器 KLW450.012
EMG 位置傳感器 KLW600.012
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/32/100/6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/4/120/6
EMG 伺服閥 SV2-16/125/315/1/1/01
EMG 濾芯 HFE400/10H
EMG 位移傳感器 KLM300/012
EMG 對中整流器 LLS675/02
EMG 光 LIC1075/11
EMG 電路處理板 EVK2.12
EMG 電源 BK11.02
EMG 處理器 MCU16.1
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG 對中光源 LID2-800.2C
EMG 對中光源 LID2-800.2C
EMG 電動執行器 DMC2000-B3-160-SMC002-DCS
EMG 位移傳感器 KLW300.012
EMG 電路板 LIC2.01.1
EMG 推動桿EB1250-60IIW5T
EMG 推動桿EB800-60II
EMG 推動桿EB220-50/2IIW5T
EMG 推動桿EB300-50IIW5T
EMG 發射光源L1C770/01-24VDC/3.0A
EMG 制動器ED121/6 2LL5   551-1
EMG 光電探頭EVK2-CP/800.71L/R
EMG 放大器EVB03/235351
EMG 對中控制SMI  2.11.1/2358100134300
EMG 電路板SMI   2.11.3/235990
EMG 泵DMC   249-A-40
EMG 泵DMC   249-A-50
EMG 泵DMC 30   A-80
EMG 泵DPMC   59-V-8
EMG 位置傳感器LWH-0300
EMG 電動執行器DMCR59-B1-10
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/6
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/8
EMG 伺服閥SV1-10/48/315/8
EMG 伺服閥SV2-10/64/210/6
EMG對中光源LID2-800.2C
EMG KLW300-012
CPC LS14.02
KLW 360.012
EPC EVM2-CP/1300.71/L/R
EPC CCDPro 5000
CPC LS13.01
EMG光電式測量傳器 EVM2-CP/1850 71/L/R
EMG高頻光源 LLS875/01
EMG數字式控制器 ICON SE+VS/AE1054
EMG適配器 EVB03.01

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化工搪瓷設備的制造化工搪瓷生產作業程序化工搪瓷設備的基材特性大量用于制造搪玻璃制品的基體材料主要是優質低碳鋼、鑄鐵和不銹鋼，其中以低碳鋼及鑄鐵為普遍。前者作為搪玻璃的適用鋼，大量用來制作設備和容器：后者，由于能澆鑄成型復雜部件，且成本低廉，因此被廣泛用以制造泵、閥、小型設備及零配件�；�材化學成份機械性能CsiMnPS拉伸強度MPa伸長率%屈服點MPa沖擊韌性MPa鋼.14.37.65.35.4533312焊條.1.12.45.5.343188鑄鐵3-.352.-2.6.4-.6.1-.5.1(石墨碳2.5)附表1:化工搪瓷設備基材的技術指標底胎的要求搪瓷設備的質量，首先決定于鐵胎。