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日本沙磨理工thermo riko無接觸式紅外線真空加熱爐GVH198
日本沙磨理工thermo riko無接觸式紅外線真空加熱爐GVH198
產品價格:(人民幣)
  • 規格:GVH198
  • 發貨地:本地至全國
  • 品牌:
  • 最小起訂量:1臺
  • 免費會員
    會員級別:試用會員
    認證類型:企業認證
    企業證件:通過認證

    商鋪名稱:深圳市秋山貿易有限公司

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    商品詳情

      日本沙磨理工thermo riko無接觸式紅外線真空加熱爐GVH198

      GVL298sys
      只有安裝在各種氣氛(例如超高真空或氣流)中的樣品才能通過紅外線精確定位,以快速加熱樣品而不會發生接觸。
      它可以輕松連接到真空系統或分析儀。
      這是Thermo Riko的主要型號。
      快速升溫 :最高升溫速度150℃/秒,最高1500℃約1min
      清潔加熱 :不用擔心熱源或電磁感應產生的氣體
      局部供暖 :僅用紅外線照射樣品,請勿加熱周圍環境
      可自由安裝 :可以連接到各種真空系統(ICF70)
      Si和SiC石墨烯等樣品的高速升溫和退火
      氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
      在氫氣和氮氣中加熱基材
      在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
      在分析儀中加熱樣品,例如加熱的解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等。
      在磁場中加熱,在非磁場中加熱
      在加壓氣氛中加熱
      加熱樣品
         紅外線引入加熱裝置根據應用具有以下規格。
       超高真空型 它支持 10 -9 Pa的超高真空。
       高速升溫型  最大溫度上升率可以實現150°C /秒的高速溫度上升。
       常溫加熱型  對于放置在大氣中的樣品,可以進行點加熱。
       加壓氣氛類型  可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
       特殊功能  利用GV系列的功能,我們可以滿足各種要求,例如快速降溫,負載加熱和在磁場中加熱。
       請隨時與我們聯系。
       CE標志合格  我們還生產符合CE標志的規范。

      原理圖
       超高真空型GVH
      型號名稱 GVH198 GVH298
       紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
       最高溫度 1200℃ 1400℃
       受熱面 φ20毫米
       最大加熱速度 1℃/秒
       最大極限真空 5×10 -9
       冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
       高速升溫型GV / GVL
      型號名稱 GV154 GV198 GVL298 GVL398
       紅外燈額定值 500瓦 1千瓦 2千瓦 3千瓦
       最高溫度 1100℃ 1300℃ 1500℃ 1600℃
       受熱面 φ14毫米 φ20毫米
       最大加熱速度 100℃/秒 100-150℃/秒
       最大極限真空 5×10 -7
       冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
       加壓氣氛類型GVP
      型號名稱 GVP198 GVP298
       紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
       最高溫度 1200℃ 1300℃
       受熱面  φ20毫米
       最大加熱速度  100℃/秒
       最大耐壓  1MPa以下
       冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
      快速退火紅外引入加熱系統GV1 / GV2
      底部照射型紅外線熱處理裝置RTA198 / RTA298
      熱溫解吸氣體分析儀GV2H
      紅外引入加熱系統,用于在磁場中加熱樣品GVL298M / GV154M / GV-M 1
      X射線地形圖的紅外線導入加熱裝置
      XPS設備安裝示例
      它由紅外導入主體,多端口真空室,溫度控制器等組成,可以在超真空下以超高速升高樣品的溫度。
      由于端口很多,因此可以用于各種實驗。
      可以進行干凈的加熱,并且可以通過打開和關閉真空室的前門來取出和取出樣品。
      [應用]-
      在真空/氣體氣氛中連續控制樣品的溫度上升/
      下降-樣品表面加熱和背面冷卻的快速上升
      下降測試(可選)-在加壓氣氛中加熱(可選)
      型號名稱 GV1 GV2
       紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
       最高溫度 1300℃ 1500℃
       受熱面 ?Φ20毫米
       最大加熱速度 100-150℃/秒
       最大極限真空 5×10 -5
       冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
      GV2
      它由紅外線引入加熱裝置,小型真空室,溫度測量樣本單元,恒定值溫度控制器等組成。
      通過用來自底表面的紅外線在真空室中照射樣品,可以進行樣品的清潔加熱和快速退火。
      您可以從反應室頂部的觀察窗觀察并觀察溫度升高期間的樣品。
      型號名稱 RTA198 RTA298
       紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
       最高溫度 900-1000℃ 1000-1300℃
       受熱面 ?Φ20毫米
       最大極限真空 5×10 -3 5×10 -5帕 
       冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
       
      RTA298
      它由超高真空型紅外引入加熱裝置,超高真空室,質量分析儀,電源/安全電路單元和真空排氣裝置組成,可以分析從高溫樣品中產生的痕量氣體。 ..
      紅外線導入加熱裝置在真空室內具有熱源,不產生氣體,可以進行干凈的加熱,可以進行高精度的分析。
      型號名稱 GV2H
       紅外燈額定值 2千瓦
       最高溫度 1500℃
       受熱面 φ15毫米
       最大極限真空 5×10 -6帕 
       目的地 京都大學
      GV2H
       
       
      它也是磁場中樣品熱處理的理想選擇。
      [特點]-
      清潔加熱,不會因電磁感應而影響樣品,因為它被光加熱-
      只能精確加熱樣品,不加熱磁體。
      還可以在真空或氣體氣氛中在磁場中升高溫度。
      它可以連接到各種電磁體和超導磁體。
      加熱后的樣品與可控氣氛的石英芯管一起插入磁體孔中。
      在樣品溫度為1000°C時,孔內壁溫度為40°C或更低。
       GVL298M
       
       
      在高真空的X射線照射過程中,樣品被加熱到超高溫。
      (紅外線是從左上和右下對角線方向發出的,而線X是從左上和水平方向上發出的。)
      真空室安裝在XY工作臺,旋轉工作臺和旋轉工作臺上,可以在加熱,保持或降低樣品的同時從任何角度進行晶體結構分析。
      型號名稱 GVL298-2S
       紅外燈額定值 2千瓦x 2
       最高溫度 1500℃
       受熱面 φ20毫米
       最大極限真空 5×10 -4帕 
       交貨地點:Spring-8
       GVL298-2S
       
       
      許多紅外線引入加熱設備與各種分析儀結合使用。
       
      這是在XPS上安裝GVL298類型的示例。
      樣品的溫度通過紅外輻射升高,并且樣品中所含的水和氣體被去除和清潔。
      通過超高真空中的傳輸桿將樣品移至照片右側的XPS分析室,然后施加X射線進行表面分析。


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