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北京冠金利新材料科技有限公司為您長期供應(yīng)高純鎢靶，高純鎢靶材，鎢靶以及鎢靶的相關(guān)產(chǎn)品，產(chǎn)品規(guī)格如下：
1、 高純鎢靶材的純度為，99.9%，99.99%高純鎢靶的分析單會在發(fā)貨同時發(fā)出。
2、 高純平面鎢靶材的常用規(guī)格：Ø100*4，Ø168*3.5，400*100*6-13，等。
3、 高純磁控濺射鎢靶材常用規(guī)格：Ø100*80，等。
4、 高純蒸發(fā)鍍用鎢絲：直徑Ø0.3-5。
5、 蒸發(fā)鍍用高純鎢粒：10*10，6*6，3*3，2*10等規(guī)格。
6、 高純鎢靶材的生產(chǎn)工藝為真空熔煉，粉末冶金，等靜壓等。
7、 高純鎢蒸發(fā)舟常用型號：310#，308#，315#，312#等。
8、 高純鎢靶材的規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做，也可以根據(jù)各種圖紙加工。
9、 北京冠金利新材料科技有限公司其它高純靶材及鍍膜材料如下：1各種高純度金屬單質(zhì)包括金屬粉、金屬顆粒、金屬絲、金屬塊、金屬片等。產(chǎn)品包括：純鐵，銅，鋁，鉛，鋅，鎢，錫，鈷，鉻，釩，錳，鎂，鎘，鉍，銻，鈦，鋯，鉿，銦，硒，碲，鎵，鍺，錸，鎢，鉬，鉭，鈮，硼，硅，鈹，砷，貴金屬等的錠，棒材，絲材，板材，帶材，箔材，顆粒，粉末。
10、 2各種高純金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、鍍膜材料。金屬靶材：鋁靶Al、銀靶Ag、鈷靶Co、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎢靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶Zr、鈦鋁靶Ti、鋯靶Zr、鉭靶Ta、鍺靶Ge、硅靶Si、鎢靶W、鉿靶Hf、釓靶Gd、釤靶Sm、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La  金靶Au 等。
11、 合金靶材：鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎢鈷Ni-Co、鎢鐵Ni-Fe、鎢鉻Ni-Cr、鎢鋯Ni-Zr、鎢鋁Ni-Al、鎢銅Ni-Cu、鎢釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁  V-Al 、 鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等。
12、  陶瓷靶材
　　ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎢靶、等陶瓷靶材。產(chǎn)品通過各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應(yīng)用真空鍍膜的各種領(lǐng)域：科學(xué)研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產(chǎn)業(yè)，光源，光學(xué)，裝飾，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，信息存儲產(chǎn)業(yè)，數(shù)據(jù)存儲等等。  
                                      注所有產(chǎn)品規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做