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    伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射制備 VO2 薄膜
    發布者:伯東企業(上海)有限公司  發布時間:2021-01-04 15:47:28  訪問次數:99

    VO薄膜作為一種熱門的功能材料具有優秀的相變特性和電阻開關特性在微測輻射熱計、光存儲器等光學器件領域具有廣泛的應用前景.

     

    天津某材料制造商采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積制備 VO2 薄膜以獲得均勻性好沾污少附著力強較高的透過率的 VO薄膜.

     

    KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

    射頻離子源型號

    RFICP380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

     KRI 考夫曼離子源 RFICP 380

    客戶采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 產生離子束不斷轟擊源極靶材和工件工件在離子束轟擊下迅速被加熱至高溫源極靶材在轟擊作用下濺射出的合金元素不斷奔向工件表面經沉積擴散過程形成一定厚度的涂層.

     

    KRI 射頻離子源 RFICP380 運行結果:

    1. 獲得的薄膜在可見光波段具有較高的透過率

    2. 薄膜較為平整且對可見光的透過率較高為38%退火處理提高了薄膜的結晶性和透過率

    3. 制備出單斜結構的VO2薄膜且具有晶面擇優取向

    4. 制備的薄膜均勻性好沾污少附著力強沉積速率大效率高產量高

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

     

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