在真空環境產生等離子體的原因很多,主要有以下兩個原因:
引入真空室的氣體在壓力環境下不會電離,在充入氣體電離產生等離子體之前bi須達到真空環境。另外，真空環境允許我們控制真空室中氣體種類，這對等離子處理體過程的可重復性是至關重要的。
要進行等離子處理產品,首先我們要產生等離子體。首先，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個電極板之間產生的射頻(RF) 激活，這些氣體中被激活的離子加速，開始震動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發出紫外光，從而產生等離子體輝光。溫度控制系統常用于控制刻蝕速率。60 - 9d攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統已經預編程并集成到等離子體系統的軟件中間。設置保存每個等離子處理的程序能輕松復制處理過程。
可以通過向等離子體室中引入不同氣體，改變處理過程。常用的等離子處理.氣體包括02、N2,Ar,H2 和CF4。大多數實驗室，基本上都使用這五種氣體單獨或者混合使用進行等離子體處理。
等離子體處理過程通常需要大約兩到十分鐘。當等離子體處理過程完成時,真空泵去除等離子室中的污染物，室里面的材料是清潔,消過毒的,可以進行粘接或下一步程序。
杭州嘉維創新科技有限公司是多家先進儀器制造商的合作伙伴。代理銷售東京理化EYELA、威伊WELCH、日立、isco、CEM、biotek、布魯克海文Brookhaven、布勞恩MBRAUN、雅馬拓yamato、賽默飛世爾Thermo等公司的溶劑純化系統、手套箱、平行蒸發儀、真空濃縮儀、微通道反應器、微波合成儀、流動反應器、平行合成儀、反應量熱儀、低溫反應器、低溫冷卻液循環泵、冷水機、旋轉蒸發儀、分子蒸餾儀、冷凍干燥機、噴霧干燥機、快速制備色譜儀、質構儀、粒度儀、酶標儀、真空泵等設備，并提供技術售后服務。