化學鍍鎳技術因工藝設備簡單，鍍液分散能力好，鍍層厚度均勻，較電鍍技術有獨特的優越性而被廣泛應用。當化學鍍鎳溶液老化，成為化學鍍鎳廢液時，廢液中存在大量的鎳離子、亞磷酸鈉、次磷酸鈉、pH緩沖劑及穩定劑等有機物。未經處理的化鎳廢水不經處理，會對環境造成嚴重的污染。
典型的化學鍍鎳工藝以次磷酸鹽為還原劑，廢水中的為絡合態的鎳、磷酸鹽、有機物等。目前該廢水的處理方法有電解法、離子交換法、化學沉淀法。
化學沉淀法是傳統且常用出咯化學鍍鎳廢水的方法，一般講各種沉淀劑加入化學鍍鎳廢水中，這些物質可以與廢液中的亞磷酸根或鎳離子反應形成沉淀，從而從廢液中去除。這種方法會存在對次亞磷酸根去除不徹底的問題。
基于化學沉淀法的基礎，本文提出一種新型化學鍍鎳廢水處理技術即次亞磷去除劑水處理劑，該產品采用均相共沉淀技術，能夠與次亞磷酸鹽結合生成不溶性沉淀，達到去除完全的目的。次亞磷去除劑(HMC-P3)是專門針對化學鍍鎳廢水中次亞磷酸鹽而研發的，工藝簡單、產生的污泥少，并且具有除重金屬，降COD等多重效果。其實驗效果如下：
該次亞磷去除劑投加過程中，一定要注意PH的調節，保證沉淀時間。在測試過程中最好采用二次沉淀，以防止多余的次亞磷去除劑干擾，經過這種方法，次亞磷酸鹽完全沉淀而去除，達到國家排放標準0.5mg/L。
次亞磷去除劑HMC-P3適用范圍包括兩大領域：一為次亞磷廢水，利用均相共沉淀技術，當HMC-P3溶于廢水中時，與次亞磷通過均相反應結合為固體沉淀，再通過混凝形成基團較大的絮狀物，最后固液分離實現去除；二為有機磷廢水，有機磷通常為結構較復雜的大分子物質，可將其簡單氧化為次亞磷，再通過HMC-P3的均相沉淀原理實現去除。